HZF 1600℃真空气氛炉

一、真空气氛炉应用领域   

该真空电阻炉以1800型硅钼棒为加热元件，采用双层壳体结构和日本岛电40段程序控温系统，移相触发、可控硅控制，炉膛采用氧化铝多晶纤维材料，真空电阻炉广泛应用于金属材料在低真空、还原性、保护性气氛下的热处理；也可以用于特殊材料的热处理。

二、真空气氛炉主要特点   
炉门口安装有水冷系统，气体经过流量计后由后膛进入，并有多处洗炉膛进气口，出气口处有燃烧嘴，可以通氢气、氩气、氮气、氧气、一氧化碳等气体，能抽真空，真空度可达5pa,该炉具有温场均衡、表面温度低、升降温度速率快、节能等优点，是高校、科研院所、工矿企业做气氛保护烧结、气氛还原用的理想产品。

三、真空气氛炉规格型号

销售热线： ，，欢迎客户来电咨询。

选配：真空计，真空泵，气氛保护系统，氧含量测定仪，气体流量计，RS485接口。