产品简介
特点介绍 薄膜测厚仪,适用于介质,半导体,薄膜滤波器和液
公司简介
北京海富达科技有限公司成立于 2014 年,是医疗设备、实验设备、平台综合解决方案提供商。公司为国内企事业单位 提供高品质仪器仪表,实验设备以及整体解决方案。 公司与国内外多家世界生产商已建立长期合作关系。公司经营产品广泛,灵活满足不同事业单位和企业客户的差异化需求 以及快速创新的追求,产品故障率低,维护成本小,性能优异,售后服务完善。公司产品在行业内均拥有持续的应用历史并 经过市场实际应用检验。 坚持以持续技术创新为客户不断创造价值为经营理念,公司在产品研发方面投入比例逐年递增,目前自主研发并投入市场 的产品已达十余种,长期以来,公司一直按照标准,搭建实验室平台,构建高品质、高标准、持续创新的发展体系。 坚持稳步发展的管理理念,不断刷新自己在业内的记录。
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产品说明
特点介绍
薄膜测厚仪,适用于介质,半导体,薄膜滤波器和液晶等薄膜和涂层的厚度测量。该薄膜测厚仪,是我公司与美国new-span公司合作研制的,采用new-span公司的薄膜测厚技术,基于白光干涉的原理来测定薄膜的厚度和光学常数(折射率n,消光系数k)。它通过分析薄膜表面的反射光和薄膜与基底界面的反射光相干形成的反射谱,用相应的软件来拟合运算,得到单层或多层膜系各层的厚度d,折射率n,消光系数k。该设备关键部件均为国外进口,也可根据客户需要整机进口。
仪器特点
1 非接触式测量,用光纤探头来接收反射光,不会破坏和污染薄膜;
2 测量速度快,测量时间为秒的量级;
3 可用来测薄膜厚度,也可用来测量薄膜的折射率n和消光吸收k;
4 可测单层薄膜,还可测多层膜系;
5 可应用于各种介质,半导体,液晶等透明半透明薄膜材料;
6 软件的材料库中整合了大量材料的折射率和消光系数,可供用户参考;
7 内嵌微型光纤光谱仪,结构紧凑, 光纤光谱仪也可单独使用。
参数和性能指标
厚度范围: 20nm-50um(只测膜厚),100nm-25um(同时测量膜厚和光学常数n,k)
度: <1nm或<0.5%
重复性: 0.1nm
波长范围: 380nm-1000nm
可测层数: 1-4层
样品尺寸: 样品镀膜区直径>1.2mm
测量速度: 5s-60s
光斑直径: 1.2mm-10mm可调
仪器成套性
测厚仪主体(内含光源和光纤光谱仪),光纤跳线,光纤探头,标准硅片,支撑部件,配套软件
可扩展性
通过光纤连接带有C口的显微镜,就可以使本测量仪适用于微区(>10um)薄膜厚度的测量。
强大的软件功能
界面友好,操作简便;
可保存测量得到的反射谱;
可读取保存的反射率数据;
可选择是否测量折射率n,消光系数k;
可选择光谱范围;
可猜测薄膜厚度以节省测量时间;
可从大量的材料库中选择薄膜和基底的材料;
用户可自己扩充材料库。
技术指标
薄膜测厚仪,适用于介质,半导体,薄膜滤波器和液晶等薄膜和涂层的厚度测量。该薄膜测厚仪,是我公司与美国new-span公司合作研制的,采用new-span公司的薄膜测厚技术,基于白光干涉的原理来测定薄膜的厚度和光学常数(折射率n,消光系数k)。它通过分析薄膜表面的反射光和薄膜与基底界面的反射光相干形成的反射谱,用相应的软件来拟合运算,得到单层或多层膜系各层的厚度d,折射率n,消光系数k。该设备关键部件均为国外进口,也可根据客户需要整机进口。
仪器特点
1 非接触式测量,用光纤探头来接收反射光,不会破坏和污染薄膜;
2 测量速度快,测量时间为秒的量级;
3 可用来测薄膜厚度,也可用来测量薄膜的折射率n和消光吸收k;
4 可测单层薄膜,还可测多层膜系;
5 可应用于各种介质,半导体,液晶等透明半透明薄膜材料;
6 软件的材料库中整合了大量材料的折射率和消光系数,可供用户参考;
7 内嵌微型光纤光谱仪,结构紧凑, 光纤光谱仪也可单独使用。
参数和性能指标
厚度范围: 20nm-50um(只测膜厚),100nm-25um(同时测量膜厚和光学常数n,k)
度: <1nm或<0.5%
重复性: 0.1nm
波长范围: 380nm-1000nm
可测层数: 1-4层
样品尺寸: 样品镀膜区直径>1.2mm
测量速度: 5s-60s
光斑直径: 1.2mm-10mm可调
仪器成套性
测厚仪主体(内含光源和光纤光谱仪),光纤跳线,光纤探头,标准硅片,支撑部件,配套软件
可扩展性
通过光纤连接带有C口的显微镜,就可以使本测量仪适用于微区(>10um)薄膜厚度的测量。
强大的软件功能
界面友好,操作简便;
可保存测量得到的反射谱;
可读取保存的反射率数据;
可选择是否测量折射率n,消光系数k;
可选择光谱范围;
可猜测薄膜厚度以节省测量时间;
可从大量的材料库中选择薄膜和基底的材料;
用户可自己扩充材料库。
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