ICP-2060T介绍（化学法）
ICP-2060T电感耦合等离子体发射光谱仪，具有优异的分辨率、测试准确度与度，广泛应用于铁合金、稀土工业、矿石分析、金属冶炼、地质研究、环境检测等行业，可测试元素达70余种，在各个行业中都有着许多成功的应用案例。
应用领域：工业硅，硅煤，硅石，石英石，石油焦，硅铁，硅锰等产品中微量元素含量的测定。
测试元素种类：铁，铝，钙，磷，硼，钛，镁，铬，锰，钒，镍，铜，钾，钠，钴，铅，锌等微量元素。
参照国家标准：GBT 14849.4-2014工业硅化学分析方法第4部分:杂质元素含量的测定电感耦合等离子体发射光谱法。
WDX-200介绍（固体粉末压片法）
WDX200波长色散X荧光光谱仪用于工业硅中杂质元素的检测，从制样到出结果只需几分钟（粉碎、压片、测试），操作简单，对使用人员要求不高，检测速度远远优于化学分析方法，无需任何化学试剂。    
方法提要：测试速度快，不需要化学试剂。
样品上振磨机振磨至试样能通过0.074mm标准筛（200目），用垫衬剂垫底包边或置于压环内放入压片机，压力在40t，保压时间30s。卸压后取出样片，吹去表面杂质（样片厚度应不小于4mm）后放入仪器进行测定。
仪器和材料
1.波长色散型 X 射线荧光光谱仪
2.振磨机(含碳化钨磨盘)。
3.压片机(含压环).可提供40 t 压力
4.电子天平:感量为 0.1 g
5.粘结剂:硼酸或淀粉(分析纯)
6.垫衬剂:硼酸(工业纯)
7.三乙醇胺(分析纯)
测试元素种类：铁，铝，钙，钛，镁，铬，锰，钒，镍，铜等微量元素。
参照国家标准：GBT 14849.4-2014工业硅化学分析方法第 5 部分:杂质元素含量的测定X 射线荧光光谱法。
CS-188高频红外碳硫分析仪介绍
根据国标GB/T 14849.6-2014本部分规定了工业硅中碳含量的测定方法，测定范围：0.010%-0.50%。 
方法提要
     试样于高频感应炉的氧气流中高温燃烧，其中的碳杂质转化发二氧化碳气体，由氧气载至红外检测器的测量室 ,检测吸收特定波长的红外光强度，其吸收强度与二氧化碳浓度成正比，根据检测器接受光强度的变化测得碳含量。
试剂和材料
1.氧气,纯度 99.995%。 
2.助熔剂(质量比，钨:锡:铁=1.5:0.15:0.3),含碳量小于0.001%，粒度0.5mm~1.0mm。 
3.标准样品:有证系列国家标准样品(碳含量为0.010%~0.50%)。
4.坩埚:碳硫分析专用,预先于1100℃的高温马弗地中灼烧4H,冷却后放置于干燥器中备用。
5.坩埚钳。
仪器
1 高频红外碳硫分析仪。
2 分析天平，精度为0.0001g。
3 马弗炉,额定温度不小于1200℃。
测试
准备好仪器、试剂和材料后，按照国标GB/T 14849.6-2014中推荐的测试方案及步骤，就可以很好的测定出工业硅中碳的含量。