SYDC-100,200,300,500 浸渍提拉镀膜机

浸渍提拉镀膜机,浸渍提拉机，提拉镀膜机特点：提拉装置进口伺服电机高、低速运型平稳限位传感器独特设计的夹具本公司提供1.高性能浸渍提拉镀膜机，型号多样，有SYDC-100，200,300,500,1000。 还有SYDC-100H，200H，SYDC-100M，SYDC-100N等2.高性能程控匀胶机，SYSC-100,100A，100B，150,200,300等。

工欲善其事 必先利其器 上海三研科技有限公司致力于为纳米薄膜材料、纳米粉体材料领域的科学研究及产品生产提供优质的仪器设备。 我们的浸渍提拉镀膜机产品用于溶胶-凝胶法制备纳米薄膜材料。不同型号的提拉镀膜机，可用于从10mm至2000mm不同尺寸基片的纳米薄膜制备，可控制膜厚从几十纳米至几百纳米，可在恒温、气氛（氮气）条件下镀膜，可实现全自动多层材料的镀膜。采用高精度进口零部件，运行稳定、精密度高、无振动，镀膜无条纹，设备免维护。 我们的高精度程控匀胶机产品采用高速伺服电机，可用于基底的单面旋转涂膜，基底材料可选硅片、玻璃、金属、塑料等材质，基底尺寸从Ø10mm～Ø300mm均可涂膜，全自动程序控制，运行稳定。 我们可以提供溶胶-凝胶法制备薄膜材料的技术咨询服务，从前驱物的选择、溶胶的配置、镀膜、到热处理等一系列的工艺过程都是我们熟悉并擅长的。

浸渍提拉镀膜机,浸渍提拉机，提拉镀膜机

SYDC-100

一.产品应用
本产品主要用于溶胶-凝胶法等液相法制备薄膜材料。把洁净干燥的基片浸入溶液（溶胶）中，通过预先设置的参数，将浸渍后的基片以一定速度垂直提拉起来。在基片上附着一层膜，称为 “湿凝胶膜”，随着“湿凝胶膜”膜层中溶剂的挥发，膜层在基片上固化成为“干凝胶膜”。“干凝胶膜”经过进一步的干燥及高温热处理便得到所需的纳米薄膜材料。膜层厚度由提拉速度，液体浓度和液体粘度决定。
二.产品简介
浸渍提拉镀膜机是专门为液相（特别是sol-gel法）制备薄膜材料的研究工作而设计，对不同液体通过浸渍提拉生长薄膜。提拉速度、提拉高度、浸渍时间、镀膜次数（多次多层镀膜）、镀膜间隔时间均连续可调、控制。对镀膜基质无特殊要求，片状、块状、圆柱状等均可镀膜。运行稳定、工作时液面无振动，可大提高实验精度与实验效率。
适用于硅片、晶片、玻璃、陶瓷、金属等所有固体材料表面涂覆工艺。应用于科学研究、产品生产。
三.产品特点
1.的垂直提拉装置。新升级为瑞士原装进口的垂直提拉装置部件，采用特种功能材料制作，具有度高、传动无间隙、运行平滑、耐腐蚀、终身免维护、使用寿命长等特点。
2.采用伺服电机驱动。配合瑞士原装进口的垂直提拉装置和程序控制系统，确保运行精度及稳定性，已达到完全消除提拉震动的效果，确保涂膜均匀。
3.多参数全自动程序控制。共有六个参数设置：下降速度、浸渍时间、提拉速度、镀膜尺寸、镀膜次数、镀膜间隔时间，各参数均连续可调，控制。镀膜程序设定后，从下降到浸渍，再到提拉镀膜的整个镀膜过程全自动运行。
4.高、低速均运行平稳，镀膜时液面无振动，使膜层更均匀、无条纹。
5.采用4.3英寸液晶触摸屏使控制更方便。运行时，各项参数实时显示，更直观了解镀膜进程。
6.上下两端均安装有限位传感器，提拉或下降运行时，到限位处自动停止，避免提拉或下降的超限运行。
7.采用独特设计的平口型夹具，两面均匀夹持样片，不会夹坏样片。
四.技术参数
1.提拉速度范围：1～6000 μm/s，zui小分辨率1μm/s； 
2.速度精度：-0.02%～+0.02%；
3.zui大行程：约200 mm；
4.可镀膜基片尺寸：MIN 10×10 mm，MAX 100×100 mm，厚度MAX 10mm；
5.浸渍时间：1～3600 s，zui小分辨率1s；
6.循环镀膜次数：1～1000次，少1次；
7.循环镀膜间隔时间：1～3600 s，zui小分辨率1s；
8.电源：220V/50Hz ；

浸渍提拉镀膜机,浸渍提拉机，提拉镀膜机

SYDC-200

一.产品应用
本产品主要用于溶胶-凝胶法等液相法制备薄膜材料。把洁净干燥的基片浸入溶液（溶胶）中，通过预先设置的参数，将浸渍后的基片以一定速度垂直提拉起来。在基片上附着一层膜，称为 “湿凝胶膜”，随着“湿凝胶膜”膜层中溶剂的挥发，膜层在基片上固化成为“干凝胶膜”。“干凝胶膜”经过进一步的干燥及高温热处理便得到所需的纳米薄膜材料。膜层厚度由提拉速度，液体浓度和液体粘度决定。
二.产品简介
浸渍提拉镀膜机是专门为液相（特别是sol-gel法）制备薄膜材料的研究工作而设计，对不同液体通过浸渍提拉生长薄膜。提拉速度、提拉高度、浸渍时间、镀膜次数（多次多层镀膜）、镀膜间隔时间均连续可调、控制。对镀膜基质无特殊要求，片状、块状、圆柱状等均可镀膜。运行稳定、工作时液面无振动，可大提高实验精度与实验效率。
适用于硅片、晶片、玻璃、陶瓷、金属等所有固体材料表面涂覆工艺。应用于科学研究、产品生产。
三.产品特点
1.新升级为瑞士原装进口的垂直提拉装置部件，采用特种功能材料制作，具有度高、传动无间隙、运行平滑、耐腐蚀、终身免维护、使用寿命长等特点。
2.采用伺服电机驱动，配合瑞士原装进口的垂直提拉装置和程序控制系统，确保运行精度及稳定性，已达到完全消除提拉震动的效果，确保涂膜均匀。
3.多参数全自动程序控制。共有六个参数设置：下降速度、浸渍时间、提拉速度、镀膜尺寸、镀膜次数、镀膜间隔时间，各参数均连续可调，控制。镀膜程序设定后，从下降到浸渍，再到提拉镀膜的整个镀膜过程全自动运行。高、低速均运行平稳，镀膜时液面无振动，使膜层更均匀、无条纹。
4.4.3寸液晶触摸屏使控制更方便；运行时，各项参数实时显示，更直观了解镀膜进程；
5.特殊设计的平口型夹具，两面均匀夹持样片，不会夹坏样片；
6.上下两端均安装有限位传感器，提拉或下降运行时，到限位处自动停止，避免提拉或下降的超限运行。
四.技术参数
1.提拉速度范围：1～8000 μm/s，zui小分辨率1μm/s；
2.速度精度：-0.02%～+0.02%
3.zui大行程：约260 mm
4.可镀膜基片尺寸：MIN 10×10 mm，MAX 200×200 mm，厚度MAX 10mm；
5.浸渍时间：1～3600 s，zui小分辨率1s；
6.循环镀膜次数：1～1000次，少1次；
7.每次镀膜间隔时间：1～3600 s，zui小分辨率1s；
8.电源：220V/50Hz 

浸渍提拉镀膜机,浸渍提拉机，提拉镀膜机

SYDC-300

一.产品简介
SYDC-300型浸渍提拉镀膜机是专门为液相法（特别是sol-gel法）制备纳米薄膜材料而设计。将洁净干燥的基片浸入镀膜溶液中，通过预先设置的参数，将浸渍后的基片以一定速度提拉起来，在基片上附着一层膜，称为“湿凝胶膜”，随着溶剂的挥发，膜层在基片上固化成为“干凝胶膜”。“干凝胶膜”经过进一步的干燥及高温热处理便得到所需的纳米薄膜材料。
本产品采用全自动控制系统。提拉速度、提拉高度、浸渍时间、镀膜次数（多次多层镀膜）、镀膜间隔时间均连续可调、控制。运行稳定、工作时液面无振动，膜层均匀无条纹。对镀膜基质无特殊要求，片状、块状、圆柱状等均可镀膜。
适用于硅片、晶片、玻璃、陶瓷、金属等固体材料表面镀膜。应用于科学研究、产品生产。
二.产品特点
1.新升级为瑞士原装进口的垂直提拉装置部件，采用特种功能材料制作，具有度高、传动无间隙、运行平滑、耐腐蚀、终身免维护、使用寿命长等特点。
2.采用伺服电机驱动，配合瑞士原装进口的垂直提拉装置和程序控制系统，确保运行精度及稳定性，已达到完全消除提拉震动的效果，确保涂膜均匀。
3.多参数全自动程序控制。共有六个参数设置：下降速度、浸渍时间、提拉速度、镀膜尺寸、镀膜次数、镀膜间隔时间，各参数均连续可调，控制。镀膜程序设定后，从下降到浸渍，再到提拉镀膜的整个镀膜过程全自动运行。
4.采用箱体式设计，镀膜过程在密闭箱体内的恒定空气环境中进行，防止空气流动、微风吹动对膜层中溶剂挥发的影响，从而避免对膜层微观结构的影响。
5.前门及侧门采用透明有机玻璃板制作，便于观察镀膜过程；
6.可全自动运行镀膜，也可进入手动操作模式镀膜；
7.7英寸触摸屏使控制操作更方便。运行时，各项参数实时显示，更直观了解镀膜进程；
8.控制系统内置8GB容量内存，自动运行镀膜的各项参数实时储存，便于查询历史操作记录。
9.高、低速均运行平稳，镀膜时液面无振动，使膜层更均匀、无条纹。
10.独特设计的两面平口型夹具，夹口两面都有一层橡胶垫，确保夹持牢固且不会夹坏基片。
三.技术参数
1.提拉速度范围：1～10000 μm/s，zui小分辨率1 μm/s；
2.速度精度：-0.01%～+0.01%；
3.zui大行程：370 mm（以实际为准）；
4.适用基片尺寸：MIN 10×10 mm，MAX 300×300 mm，厚度 MAX 10mm；
5.浸渍时间：1～3600 s，zui小分辨率1s；
6.镀膜次数：1～1000次，少1次；
7.每次镀膜间隔时间：1～3600 s，zui小分辨率1s；
8.电源：220V/50H；

SYDC-500

一.产品应用
本产品主要用于溶胶-凝胶法等液相法制备薄膜材料。把洁净干燥的基片浸入溶液（溶胶）
中，通过预先设置的参数，将浸渍后的基片以一定速度垂直提拉起来。在基片上附着一层膜，
称为 “湿凝胶膜”，随着“湿凝胶膜”膜层中溶剂的挥发，膜层在基片上固化成为“干凝胶膜”。“干
凝胶膜”经过进一步的干燥及高温热处理便得到所需的纳米薄膜材料。膜层厚度由提拉速度，液
体浓度和液体粘度决定。
二.产品简介
浸渍提拉镀膜机是专门为液相（特别是sol-gel 法）制备薄膜材料的研究工作而设计，对不
同液体通过浸渍提拉生长薄膜。提拉速度、提拉高度、浸渍时间、镀膜次数（多次多层镀膜）、
镀膜间隔时间均连续可调、控制。对镀膜基质无特殊要求，片状、块状、圆柱状等均可镀
膜。运行稳定、工作时液面无振动，可大提高实验精度与实验效率。
适用于硅片、晶片、玻璃、陶瓷、金属等所有固体材料表面涂覆工艺。应用于科学研究、
产品生产。
三.产品特点
1.采用伺服电机驱动，配合原装进口的垂直提拉装置和程序控制系统，确保运行精度及稳定
性；伺服电机运转时的、平滑性、无抖动等特点是步进电机不可比拟的。原装进口
的垂直提拉装置具有度高、传动无间隙、运行平滑、耐腐蚀、免维护、使用寿命长等
特点。
2.多参数全自动程序控制。共有六个参数设置：下降速度、浸渍时间、提拉速度、镀膜尺寸、
镀膜次数、镀膜间隔时间，各参数均连续可调，控制。镀膜程序设定后，从下降到浸
渍，再到提拉镀膜的整个镀膜过程全自动运行。也可进入手动操作模式镀膜；
3.采用箱体式设计，镀膜溶液及样品均置于密闭箱体内，避免外界环境（微风和灰尘）的干
扰；前门及侧面采用透明玻璃，便于观察镀膜过程；
4.高、低速均运行平稳，镀膜时液面无振动，使膜层更均匀、无条纹。
5.上下两端均安装有限位传感器，提拉或下降运行时，到限位处自动停止，避免提拉或下降
的超限运行。
6.采用10 英寸触摸屏使控制更方便，运行时，各项参数实时显示，更直观了解镀膜进程；
7.标配3 套夹具夹持基片，更牢固更稳定。采用独特设计的平口型夹具，两面均匀夹持样片，
不会夹坏样片。
四. 技术参数
1.提拉速度范围：1～10000 μm/s，zui小分辨率1 μm/s；
2.速度精度：-0.01%～+0.01%
3.zui大行程：540mm (以实际为准) ；
4.可镀膜基片尺寸：MIN 10×10 mm，MAX 500×500 mm，厚度 MAX 10mm。
5.浸渍时间：1～3600 s，zui小分辨率1s；
6.镀膜次数：1～200 次，少1 次；
7.每次镀膜间隔时间：1～3600 s，zui小分辨率1s；
8.电源：220V/50Hz

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