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价格:电议
所在地:江苏 常州市
型号:AE-100M
更新时间:2021-01-23
浏览次数:1303
公司地址:常州市新北区太湖东路9-4号软件园D812
李(女士) 经理
纳米白光干涉仪AE-100M
纳米白光干涉仪AE-100M
用途:
纳米白光干涉仪AE-100M结合光学显微镜与白光干涉仪功能的扫描式白光干涉显微镜,结合显微物镜与干涉仪、不需要复杂光调整程序,兼顾体积小、纳米分辨率、易学易用等优点,可提供垂直扫描高度达400um的微三维测量,适合各种材料与微组件表面特征和微尺寸检测。应用领域包含:玻璃镜片、镀膜表面、晶圆、光碟/影碟、微机电元件、平面液晶显示器、高密度线路印刷电路板、IC封装、材料分析与微表面研究等。
特点:
● 纳米深度3D检测
● 高速、无接触量
● 表面形状、粗糙度分析
● 非透明、透明材质皆适用
● 非电子束、非雷射的安全量测
● 低维护成本
专业级的3D图形处理与分析软体(Post Topo):
● 提供多功能又具友好界面的3D图形处理与分析
● 提供自动表面平整化处理功能
● 提供高阶标准片的软件自校功能
● 深度、高度分析功能提供线性分析与区域分析等两种方式
● 线性分析方式提供直接追溯ISO定义的表面粗糙度(Roughness)与起伏度
● (waviness)的测量分析。可提供多达17种的ISO量测参数与4种额外量测数据(Wafer)
● 区域分析方式提供图形分析与统计分析
● 具有平滑化、锐化与数字过滤波等多种二维快速利叶转换(FFT)处理功能
● 量测分析结果以BMP等多种图形档案格式输出或是Excel文本文件格式输出
高速的干涉解析软件(ImgScan):
● 系统硬件搭配ImgScan前处理软件自动解析白光干涉条纹
● 垂直高度可达0.1nm
● 高速的分析算法则,让你不在苦候测量结果
● 垂直扫描范围的设定轻松又容易
● 有10X、20X、50X倍率的物镜可供选择
● 平台X、Y、Z位置数字式显示,使检测目标寻找快速又便利
● 具有手动/自动光调整功能以取得干涉条纹对比
● 具有的PVSI与高速VSI扫描测量模式供选择
● 具有解析算法则可处理半透明物体的3D形貌
● 具有自动补点功能
● 可自行设定扫描方向
纳米白光干涉仪AE-100M
技术规格参数:
型号 |
AE-100M |
||
移动台(mm) |
平台尺寸100*100 ,行程13*13 |
||
物镜放大倍率 |
10X |
20X |
50X |
观察与量测范围(mm) |
0.43*0.32 |
0.21*0.16 |
0.088*0.066 |
光学分辨力(μm) |
0.92 |
0.69 |
0.5 |
收光角度(Degrees) |
17 |
23 |
33 |
工作距离 |
7.4 |
4.7 |
3.4 |
传感器分辨率 |
640*480像素 |
||
机台重量(kg)/载重kg |
20kg/小于1kg |
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Z轴移动范围 |
45mm ,手动细调;可订制150mm |
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Z轴位置数字显示器 |
分辨力1μm |
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倾斜调整平台 |
双轴/手动调整 |
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高度测量 |
|||
测量范围 |
100(μm)(400μm ,选配) |
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量测分辨力 |
0.1nm |
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重复精度 |
≤ 0.1% (量测高度:>10μm) |
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≤10nm(量测高度1μm 10μm) |
|||
≤ 5nm(量测高度:<1μm ) |
|||
量测控制 |
自动 |
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扫描速度(μm/s) |
12(高) |
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光源 |
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光源类型 |
仪器用卤素(冷)光源 |
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平均使用寿命 |
1000小时100W 500小时(150W) |
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光强度调整 |
自动/手动 |
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数据处理与显示用计算机 |
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中央处理运算屏幕 |
双核心以上CPU |
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影像与数据显示屏幕 |
21"双晶屏幕 |
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操作系统 |
Win7 |
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电源与环境要求 |
AC100 --240 V 50-60Hz |
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环境振动 |
VC-C等级以上 |
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测量分析软件 |
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量测软件ImgScan |
ImgScan测量软件:具VSI/ PVSI/PSI 测量模式(PSI量测模式需另选配PSI模块搭配) |
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分析软件PosTopo |
ISO粗燥度/阶高分析,快速传利叶转换和滤波,多样的2D和3D |