HS-FC-01 SIC涂层MOCVD外延片石墨托盘

SIC涂层MOCVD外延片石墨托盘是 LED芯片产业MOCVD外延片承载石墨托盘 ICP蚀刻制程用之承载盘 硅外延及GaN外延等各Ⅲ-V主族、Ⅱ-Ⅵ副族化合物半导体半导体材料外延托盘的配件和耗材。

合能阳光是一家硅材料检验仪器及服务提供商，提供全面的硅料、单晶硅片、多晶硅片等成套检验设备及最优解决方案。同时，拉单晶生产所需的辅料也是我公司主营范围之一。

北京合能阳光新能源技术有限公司是一家集科、工、贸为一体的光伏高科技公司。
近年来，随着太阳能行业的飞速发展，导致硅材料极度紧张，硅材料价格也不断上涨，使得客户在选用制造过程用的相关辅料耗材时，极为慎重，对于太阳能耗材的要求越来越高。合能阳光新能源技术有限公司在太阳能耗材、仪表、设备方面积累了多年的经验，为客户提供了高品质的产品和优质的服务。

每一张定单的背后都包含着合能阳光人做事的原则：
------及时发货
------优质包装
------专业服务

我们所提供的不仅是产品，还将为您提供技术支持，我们在这个行业中的技术积累，使我们能够为用户解决问题，这也是我们引以为骄傲的角色。
 

SIC涂层MOCVD外延片石墨托盘

我公司拥有多名日本专家、博士工程师及先进经营管理团队，拥有专业从事碳化硅涂层以及对石墨产品进行高温纯化除杂技术。公司产品及技术广泛应用于半导体行业，LED行业，航天行业，化工行业，光伏行业，包装行业，耐腐蚀行业、冶金行业等领域。

公司通过引进国外最先进的CVD法碳化硅涂层及高温纯化装置与技术，根据客户需要为不同形状，不同结构和大小的石墨件纯化除杂，纯化后的石墨杂质可降至小于5PPM,并采用高温化学气相沉积法沉积厚度的碳化硅涂层。

相比以往的工艺，CVD法生产的碳化硅晶体结构致密，晶格排列整齐，与沉底材料结合更紧密等优势。具有耐高温，耐磨损，耐腐蚀，易导热的特点，凭借这些涂层，我们的产品被广泛应用于制作流化床和热氢化的反应器部件，CZ直拉单晶炉的导流筒部件，以及硅外延和GaN外延的托盘。

产品指标：

ü  材料：进口等静压高纯石墨

ü  纯度：小于5ppm

ü SIC涂层厚度：120µm±30µm(涂层厚度可根据客户要求定制)

ü  涂层表面粗糙度：6-8µm

ü  涂层后基座电阻率：0.0004-0.00045Microhm-m

ü  高均匀度和优异的热传导性

ü  耐电浆轰击

ü  极佳均温性

ü  高耐腐蚀性和稳定性

ü  理想的电阻特性

ü  使用寿命长

应用领域：

ü LED芯片产业MOCVD外延片承载石墨托盘

ü ICP蚀刻制程用之承载盘

ü  硅外延及GaN外延等各Ⅲ-V主族、Ⅱ-Ⅵ副族半导体半导体材料外延托盘

合能阳光

ü  提供各种规格碳化硅涂层石墨制品：承载盘，预热环，筛盘，顶针等相关制品

ü  可接受根据图纸定制加工业务

ü  质量稳定，交货期短

主要客户：

国内半导体芯片企业、LED光电企业等

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