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KT-Z1650PVD 金靶材镀膜磁控溅射

郑州科晶仪器设备有限公司

会员指数：

企业认证：

价格：电议

所在地：河南郑州市

型号：KT-Z1650PVD

更新时间：2023-08-17

浏览次数：695

公司地址：郑州高新技术产业开发区西三环路289号6幢11单元3层73号

15515779506 孟工(先生)

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产品简介

金靶材镀膜磁控溅射，7寸人机界面，自动手动模式切换控制，最大功率1000w直流磁控溅射

公司简介

郑州科探仪器设备有限公司是集开发、制造、经营为一体的材料设备创新型企业，如今公司的产品已经遍布国内大多数实验室及科学高校，科探仪器已经成为老师同学和信任的品牌。公司以科技创新为主，服务社会为宗旨，积极设计开发新型材料制备设备，奉献于教育和科学，经过长期的研发和不断地技术积累，拥有热工，制造，控制相关技术，为化学，物理，材料，电子，高分子工程，新材料制备和研发领域的科学研究提供了精良设备。公司通过和院校老师同学强强联合，形成了有效的信息，技术交流平台，为科探仪器了解市场需求提供了强有力的支持！目前公司已研发生产产品十多个系列几十款产品，产品囊括实验电炉 CVD供气系统等离子清洗机小型离子溅射仪小型蒸镀仪石英管真空封口真空探针台半导体等。主要适用于科研院校及工矿企业在新材料、新能源等领域物理特性及化学特性的研究，广销于各大院校，及材料研究所。公司与国内高校，科研院所有多层次的合作关系，建有开放实验室，相关领域的教授、工程师、博士参与公司产品的研究和开发。我们秉承公司的发展理念，依靠严谨的技术研发能力，科学合理的生产工艺，精益求精的制造要求，全心全意做好产品质量和服务工作，科探仪器时刻怀着一颗真诚的心期待与您的合作。

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产品说明

金靶材镀膜磁控溅射，7寸人机界面，自动手动模式切换控制，最大功率1000w直流磁控溅射

单靶直流磁控溅射镀膜仪可用于制备单层铁电薄膜、导电薄膜、合金薄膜等。该单靶磁控溅射镀膜仪与同类设备相比，其不仅应用广泛，且具有体积小便于操作的优点，是一款实验室制备材料薄膜的理想设备，特别适用于实验室研究固态电解质及OLED等

单靶直流磁控溅射镀膜仪是我公司自主研发的一款高性价比磁控溅射镀膜设备，具有标准化、模块化、可定制化的特点。金靶材镀膜磁控溅射

所配电源为1000W大功率直流电源，可用于高能量的金属溅射镀膜，根据实验需求也可以选配其他规格的直流或者射频电源来实现各种材料的镀膜操作。

金属镀膜磁控溅射薄膜监测技术参数；

控制方式	7寸人机界面手动自动模式切换控制
溅射电源	直流溅射电源
镀膜功能	0-999秒5段可变换功率及挡板位和样品速度程序
功率	≤1000W
输出电压电流	电压≤1000V 电流≤1A
真空	机械泵 ≤5Pa（5分钟）分子泵≤5*10^-3Pa
溅射真空	≤30Pa
挡板类型	电控
真空腔室	不锈钢腔体φ160mm x 170mm
样品台	可旋转φ62 （可安装φ50基底）
样品台转速	8转/分钟
样品溅射源调节距离	40-105mm
真空测量	皮拉尼真空计（已安装测量范围10E5Pa 1E-1Pa）
预留真空接口	KF25抽气口 KF16放气口 6mm卡套进气口