吉致电子JEEZ抛光液 吉致电子JEEZ 钨抛光液/W CMP Slurry/W 抛光液/半导体研磨液

钨W抛光液作用: 吉致电子钨W抛光液适用于8-12吋氧化硅镀膜片的抛光。特选粒径均一的SiO2水溶胶为磨料，抛光清洗后晶圆表面粗糙度低、颗粒残留少。与国内外同类产品相比，具有易清洗、表面粗糙度低等特点.

无锡吉致电子科技有限公司主要研发生产产品为：抛光液、抛光垫等CMP化学机械研磨抛光材料，已有20余年的研发经验。 产品广泛应用于金属、光电、集成电路半导体、陶瓷、硬盘面板显示器等材质的表面深度处理，目前已发展为集研发、生产、销售于一体的现代工业科技企业。现已同多家500强企业建立合作伙伴关系，现员工已经达上百人，公司占地面积30.5亩，厂房面积约24000平方米。 产品质量管理执行ISO质量管理体系标准要求，严格管控每一环节。吉致公司采用技术，提供超高质量的产品，有效提高客户所需要的高选择比、高移除率、高平坦度、低缺陷要求。

无锡吉致电子25年研发生产——钨抛光液/W CMP Slurry/W 抛光液/半导体研磨液/CMP抛光液/化学机械抛光液/CMP化学机械抛光液slurry/CMP集成电路抛光液

钨W抛光液作用: 吉致电子钨W抛光液适用于8-12吋氧化硅镀膜片的抛光。特选粒径均一的SiO₂水溶胶为磨料，抛光清洗后晶圆表面粗糙度低、颗粒残留少。与国内外同类产品相比，具有易清洗、表面粗糙度低等特点.

我司产品优点： 

1.悬浮性好，不易沉淀，使用方便。

2.颗粒分散均匀，不团聚，软硬度适中，有效避免抛光过程中由于颗粒团聚导致的工件表面划伤缺陷。

3.运用抛光过程中的化学新作用，提高抛光速度，改善抛光表面的质量。

4.分散性好、乳液均一，程度提升抛光速率的同时降低微划伤的概率，可以提高抛光精度。

5.无粉尘产生，关注环保和人体健康安全。

可定制化：我们的抛光液可以根据客户需求定制不同的PH、粒径、浓度、稳定离子等。

包裝方式：25KG/桶(也可依客户需求)

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