产品简介
Made in UK, 英国EM Resist Ltd出品的光刻胶（浓度1%-17%/厚度20nm-3500nm PMMA、SML系列电子束曝光阻剂），PMMA是常用的普通正阻剂；SML系列阻剂是高分辨率高深宽比的正阻剂。
公司简介
南京覃思科技有限公司是从事光学、电子仪器销售的专业公司，经营范围主要为：电子光学仪器、电子显微镜及其附属设备、光学仪器、实验室仪器及光学行业特殊要求的研发和技术服务。公司主要技术人员来自于改制前的原南京江南光电集团，他们均有多年从事光学显微镜、电子显微镜、电镜制样（真空镀膜）等仪器设计、安装服务方面的行业经验，同时拥有良好的客户资源和技术能力。公司所销售的仪器质量和服务均为一流，在用户中口碑很好。
我公司获得了英国Quorum扫描电镜制样设备、欧洲Technoorg 电子显微镜样品制备系统、美国JC Nabity电子束曝光系统、德国ROYAL冷光仪、德国Ditabis混匀仪以及英国Deben电镜附件的中国区代理商和服务商的资格授权。
在“把优质产品和优质服务奉献给用户”的工作方针指导下，我公司经常举办或赞助各类学术研讨、交流及技术培训等社会活动，经常参加各种展会，同时用户跟踪沟通体系完善，客户档案管理完备，客户回访服务完全；进而取得了良好的经济效益和社会效益。
客户涵盖于国内高等院校、科研院所、医疗卫生机构、政府机构、工矿企业等领域。例如：北京大学、清华大学、浙江大学、南京大学、东南大学、哈尔滨工业大学等著名院校；中科院古生物所、中科院地质与地球物理所、中电第十四研究所、航天科工北京201研究所等知名科研机构；江西、河北公安厅等国家机构；Intel、三星Samsung、西门子Siemens、博世Bosch、希捷Seagate、汉高Henkel等著名跨国企业；洪都、三乐、航天晨光等国内骨干企业。
本公司一向坚持以“诚信经营、诚实服务”为立业宗旨，奉行“精研覃思、无微不至”的企业文化，公司将以更优秀的科技产品及服务回报社会，愿与社会各界竭诚合作，共同发展。
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产品说明
的SML正阻剂特点：无需邻近效应校正，低加速电压下也能使用，可提高EBL设备能力并制作出传统PMMA做不出来的新颖微纳器件，特别适合科研应用；有SML50、SML100、SML300、SML600、SML1000、SML2000等系列型号（数字表示光刻胶涂布厚度）。 [资料]PMMA (Polymethyl – Methacrylate；聚甲基丙烯酸甲酯；positive tone, polymer chain scission type for Electron beam, DUV, x-ray and multi-level lithography) is a widely used, versatile resist that is used for many imaging (and non-imaging) micro-electro
nic applications as well as a protective coating for wafer thinning, a bo
nding adhesive and as a sacrificial layer, but is commo
nly used as a high resolution positive resist for direct write with e-beam. EM Resist Ltd specialises in electron beam lithography resists and applications. We develop and manufacture electron beam resists in a purpose built clean-room facility to ensure maximum quality and performance.Our products and expertise are the result of many years research by experienced physicists and material scientists in both academia and industry. EM Resist products are provided in a clean room compatible box, if you need Material Safety Data Sheets, Process Information, Example design files and other useful information, please co
ntact with our Chinese Distributor(). PMMA Product Options. First,selec which solvent(Anisole or Chlorobenzene) best suits your application. Second,selec which solid percentage(1%-17%, 20nm-3500nm) of thickness required.Third,choose a volume to suit your usage needs. PMMA系列和SML系列电子束曝光阻剂/光刻胶，常作为美国JC Nabity出品的基于电镜安装的NPGS电子束曝光系统或其它类型EBL系统的配套耗材使用（详见）,欢迎选购！
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