产品简介:
ESS03是针对科研和工业环境中薄膜测量领域推出的波长扫描式多入射角光谱椭偏仪，此系列仪器的波长范围覆盖紫外、可见、近红外、到远红外。
ESS03采用宽光谱光源结合扫描单色仪的方式实现高光谱分辨的椭偏测量。
ESS03系列多入射角光谱椭偏仪用于测量单层和多层纳米薄膜的层构参数（如，膜层厚度、表面微粗糙度等）和光学参数（如，折射率n、消光系数k、复介电常数ε等），也可用于测量块状材料的光学参数。
ESS03系列多入射角光谱椭偏仪尤其适合科研中的新品研发。
技术特点：
宽的光谱范围
采用宽光谱光源、宽光谱扫描德系统光学设计，保证了仪器在宽的光谱范围下都具有高准确度，非常适合于对光谱范围要求其严格的场合。
灵活的测量设置
仪器的多个关键参数可根据要求而设定（包括：波长范围、扫描步距、入射角度等），大地提高了测量的灵活性，可以胜任要求苛刻的样品。
原子层量级的检测灵敏度
的采样方法、高稳定的核心器件、高质量的设计和制造工艺实现并保证了能够测量原子层量级地纳米薄膜，膜厚精度达到0.05nm。
非常经济的技术方案
采用较经济的宽光谱光源结合扫描单色仪的方式实现高光谱分辨的椭偏测量，仪器整体成本得到有效降低。
应用领域：
ESS03系列多入射角光谱椭偏仪尤其适合科研中的新品研发。
ESS03适合很大范围的材料种类，包括对介质材料、聚合物、半导体、金属等的实时和非实时检测，光谱范围覆盖半导体地临界点，这对于测量和控制合成的半导体合金成分非常有用。并且适合于较大的膜厚范围（从次纳米量级到10微米左右）。
ESS03可用于测量光面基底上的单层和多层纳米薄膜的厚度、折射率n及消光系数k。应用领域包括：微电子、半导体、集成电路、显示技术、太阳电池、光学薄膜、生命科学、化学、电化学、磁介质存储、平板显示、聚合物及金属表面处理等。
薄膜相关应用涉及物理、化学、信息、环保等，典型应用如：
半导体：如：介电薄膜、金属薄膜、高分子、光刻胶、硅、PZT膜，激光二管GaN和AlGaN、透明的电子器件等）；
平板显示：TFT、OLED、等离子显示板、柔性显示板等；
功能性涂料：增透型、自清洁型、电致变色型、镜面性光学涂层，以及高分子、油类、Al2O3表面镀层和处理等；
生物和化学工程：有机薄膜、LB膜、SAM膜、蛋白子分子层、薄膜吸附、表面改性处
廊坊椭圆偏振光测厚仪 光谱式椭偏仪 以及常见的结构多种型号图片
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| 型号:JX200090EX2自动椭圆偏振测厚仪 |
型号:JX200096EM13 LD系列多入射角激光椭偏仪 |
型号:JX200100ESS03 波长扫描式多入射角光谱椭偏仪 |
【温馨提示】
本公司产品因产品种类繁多，详细配置价格请致电咨询！
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在以雄厚的技术底蕴在强化开发的同时，积采用外技术标准，寻求推进与大专院校，科研单位的协作互补，以实现新产品开发的高起点，在交通部、建设部及科研所们的指导下，产品不断完善，不断更新。已广泛用于建材，建筑施工，道桥建设，水电工程和机械，交通、石油、化工等领域的质量检测。并同外各试验仪器厂建立了长期合作关系，严把质量关，价格更优惠！
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廊坊椭圆偏振光测厚仪 光谱式椭偏仪 以及常见的结构
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【廊坊椭圆偏振光测厚仪 光谱式椭偏仪 以及常见的结构一共有★★30★★多种型号以上只显示1-3种型号，如没有合适您的产品请咨询 邢台秦星科技有限公司】
廊坊椭圆偏振光测厚仪 光谱式椭偏仪 以及常见的结构多种型号内容
型号:JX200090EX2自动椭圆偏振测厚仪
EX2自动椭圆偏振
测厚仪是基于消光法（或称“零椭偏”）椭偏测量原理，针对纳米薄膜厚度测量领域推出的一款自动测量型
教学仪器。
EX2仪器适用于纳米薄膜的厚度测量，以及纳米薄膜的厚度和折射率同时测量。
EX2仪器还可用于同时测
量块状材料（如，金属、半导体、介质）的折射率n和消光系数k。
特点
经典消光法椭偏测量原理
仪器采用消光法椭偏测量原理，易于理解和掌握椭偏测量基本原理和过程。
方便安全的样品水平放置方式
采用水平放置样品的方式，方便样品的取放。
紧凑的一体化结构
集成一体化设计，简洁的仪器外形通过USB接口与计算机相连，方便使用。
高准确性的激光
光源
采用激光作为探测光波，测量波长准确度高。
丰富实用的样品测量功能
可测量纳米薄膜的膜厚和折射率；块状材料的复折射率、样品反射率、样品透过率。
便捷的自动化操作
仪器软件可自动完成样品测量，并可进行方便的测量数据分析、仪器校准等操作。
安全的用户使用权限管理
软件中设置了用户使用权限（包括：管理员、等模式），便于仪器管理和使用。
可扩展的仪器功能
利用本仪器，可通过适当扩展，完成多项偏振测量实验，如马吕斯定律实验、旋光测量实、旋光等。
应用
EX2适合于教学中单层纳米薄膜的薄膜厚度测量，也可用于测
量块状材料的折射率n和消光系数k。
EX2可测量的样品涉及微电子、半导体、集成电路、显示技术、太阳
电池、
光学薄膜、生命科学、化学、电化学、
磁质存储、平板显示、聚合物及金属表面处理等领域。
技术指标
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项目
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技术指标
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仪器型号
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EX2
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测量方式
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自动测量
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样品放置方式
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水平放置
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光源
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He-Ne激光器，波长632.8nm
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膜厚测量重复性*
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0.5nm (对于Si基底上100nm的SiO2膜层)
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膜厚范围
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透明薄膜：1-4000nm
吸收薄膜则与材料性质相关
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折射率范围
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1.3 – 10
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探测光束直径
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Φ2-3mm
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入射角度
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30°-90°，精度0.05°
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偏振器方位角读数范围
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0-360°
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偏振器步进角
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0.014°
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样品方位调整
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Z轴高度调节：16mm
二维俯仰调节：±4°
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允许样品尺寸
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样品直径可达Φ160mm
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配套软件
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* 用户权限设置
* 多种测量模式选择
* 多个测量项目选择
* 方便的数据分析、计算、输入输出
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外形尺寸
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约400*400*250mm
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仪器重量（净重）
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约20Kg
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选配件
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* 半导体激光器
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注：(1)测量重复性：是指对标准样品上同一点、同一条件下连续测量30次所计算的标准差。
性能保证
ISO9001质量体系下的仪器质量保证
专业的椭偏测量原理课程
专业的仪器使用培训
栏目页面:http://www.runlian365.com/product/4516.html
光谱椭偏仪
来源网址:http://www.runlian365.com/chanpin/xx-200090.html
EX2自动椭圆偏振测厚仪
型号:JX200096EM13 LD系列多入射角激光椭偏仪
EM13LD 系列是采用量拓科技的测量技术，针对普通精度需求的研发和质量控制领域推出的多入射角激光
椭偏仪。
EM13LD系列采用半导体
激光器作为
光源，可在单入射角度或多入射角度下对样品进行准确测量。可用于测量单层或多层纳米薄膜样品的膜层厚度、折射率n和消光系数k；也可用于同时测
量块状材料的折射率n和消光系数k；亦可用于实时测量纳米薄膜动态生长中膜层的厚度、折射率n和消光系数k。多入射角度设计实现了纳米薄膜的厚度测量。
EM13LD系列采用了量拓科技多项。
特点：
次纳米的高灵敏度
的采样方法、稳定的核心器件、高质量的制造工艺实现并保证了能够测量薄纳米薄膜，膜厚精度可达到0.5nm。
3秒的快速测量
水准的仪器设计，在保证精度和准确度的同时，可在3秒内快速完成一次测量，可对纳米膜层生长过程进行测量。
简单方便的仪器操作
用户只需一个
按钮即可完成复杂的材料测量和分析过程，数据一键导出。丰富的模型库、材料库方便用户进行测量设置。
应用：
EM13LD系列适合于普通精度要求的科研和工业环境中的新品研发或质量控制。
EM13LD系列可用于测量单层或多层纳米薄膜层构样品的薄膜厚度、折射率n及消光系数k；可用于同时测
量块状材料的折射率n和消光系数k；可用于实时测量快速变化的纳米薄膜的厚度、折射率n和消光系数k。
EM13LD可应用的纳米薄膜领域包括：微电子、半导体、集成电路、显示技术、太阳
电池、
光学薄膜、生命科学、化学、电化学、
磁质存储、平板显示、聚合物及金属表面处理等。可应用的块状材料领域包括：固体（金属、半导体、介质等），或液体（纯净物或混合物）。
技术指标:
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项目
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技术指标
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仪器型号
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EM13 LD/635 (或其它选定波长)
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激光波长
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635 nm (或其它选定波长，高稳定半导体激光器)
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膜厚测量重复性（1）
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0.5nm (对于平面Si基底上100nm的SiO2膜层)
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折射率测量重复性（1）
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5x10-3 (对于平面Si基底上100nm的SiO2膜层)
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单次测量时间
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与测量设置相关，典型3s
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的膜层范围
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透明薄膜可达1000nm
吸收薄膜则与材料性质相关
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光学结构
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PSCA（Δ在0°或180°附近时也具有高的准确度）
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激光光束直径
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2mm
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入射角度
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40°-90°可手动调节，步进5°
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样品方位调整
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Z轴高度调节：±6.5mm
二维俯仰调节：±4°
样品对准：光学自准直和显微对准系统
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样品台尺寸
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平面样品直径可达Φ170mm
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外形尺寸
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887 x 332 x 552mm (入射角为90º时)
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仪器重量（净重）
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25Kg
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选配件
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水平XY轴调节平移台，真空吸附泵
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软件(ETEM)
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* 中英文界面可选
* 多个预设项目供快捷操作使用
* 单角度测量/多角度测量操作和数据拟合
* 方便的数据显示、编辑和输出
* 丰富的模型和材料数据库支持
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注：(1)测量重复性：是指对标准样品上同一点、同一条件下连续测量30次所计算的标准差。
性能保证:
稳定性的半导体激光
光源、的采样方法，保证了稳定性和准确度
的
光学自准直系统，保证了快速、的样品方位对准
稳定的结构设计、可靠的样品方位对准，结合的采样技术，保证了快速、稳定测量
分立式的多入射角选择，可应用于复杂样品的折射率和厚度的测量
一体化集成式的仪器结构设计，使得系统操作简单、整体稳定性提高，并节省空间
一键式软件设计以及丰富的物理模型库和材料数据库，方便用户使用
可选
配件：
NFS-SiO2/Si二氧化硅纳米薄膜标片
NFS-Si3N4/Si氮化硅纳米薄膜标片
VP01真空吸附
泵
VP02真空吸附
泵
样品池
栏目页面:http://www.runlian365.com/product/4516.html
光谱椭偏仪
来源网址:http://www.runlian365.com/chanpin/xx-200096.html
EM13 LD系列多入射角激光椭偏仪
型号:JX200100ESS03 波长扫描式多入射角光谱椭偏仪
ESS03是针对科研和工业环境中薄膜测量领域推出的波长扫描式多入射角
光谱椭偏仪，此系列仪器的波长范围覆盖紫外、可见、近红外、到远红外。
ESS03采用宽光谱
光源结合扫描单色仪的方式实现高光谱分辨的椭偏测量。
ESS03系列多入射角
光谱椭偏仪用于测量单层和多层纳米薄膜的层构参数（如，膜层厚度、表面微粗糙度等）和
光学参数（如，折射率n、消光系数k、复介电常数ε等），也可用于测
量块状材料的
光学参数。
ESS03系列多入射角
光谱椭偏仪尤其适合科研中的新品研发。
技术特点：
宽的光谱范围
采用宽光谱
光源、宽光谱扫描德系统
光学设计，保证了仪器在宽的光谱范围下都具有高准确度，非常适合于对光谱范围要求其严格的场合。
灵活的测量设置
仪器的多个关键参数可根据要求而设定（包括：波长范围、扫描步距、入射角度等），大地提高了测量的灵活性，可以胜任要求苛刻的样品。
原子层量级的检测灵敏度
的采样方法、高稳定的核心器件、高质量的设计和制造工艺实现并保证了能够测量原子层量级地纳米薄膜，膜厚精度达到0.05nm。
非常经济的技术方案
采用较经济的宽光谱
光源结合扫描单色仪的方式实现高光谱分辨的椭偏测量，仪器整体成本得到有效降低。
应用领域：
ESS03系列多入射角
光谱椭偏仪尤其适合科研中的新品研发。
ESS03适合很大范围的材料种类，包括对介质材料、聚合物、半导体、金属等的实时和非实时检测，光谱范围覆盖半导体地临界点，这对于测量和控制合成的半导体合金成分非常有用。并且适合于较大的膜厚范围（从次纳米量级到10微米左右）。
ESS03可用于测量光面基底上的单层和多层纳米薄膜的厚度、折射率n及消光系数k。应用领域包括：微电子、半导体、集成电路、显示技术、太阳
电池、
光学薄膜、生命科学、化学、电化学、
磁介质存储、平板显示、聚合物及金属表面处理等。
薄膜相关应用涉及物理、化学、信息、环保等，典型应用如：
半导体：如：介电薄膜、金属薄膜、高分子、光刻胶、硅、PZT膜，激光二管GaN和AlGaN、透明的电子器件等）；
平板显示：TFT、OLED、等离子显示板、柔性显示板等；
功能性涂料：增透型、自清洁型、电致变色型、镜面性
光学涂层，以及高分子、油类、Al2O3表面镀层和处理等；
生物和化学工程：有机薄膜、LB膜、SAM膜、蛋白子分子层、薄膜吸附、表面改性处理、液体等。
节能环保领域：LOW-E玻璃等。
ESS03系列也可用于测
量块状材料的折射率n和消光系数k。应用领域包括：固体（金属、半导体、介质等），或液体（纯净物或混合物）。典型应用包括：
玻璃新品研发和质量控制等。
技术指标：
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项目
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技术指标
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光谱范围
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ESS03VI：370-1700nm
ESS03UI：245-1700nm
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光谱分辨率（nm）
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可设置
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40°-90°手动调节，步距5，重复性0.02
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准确度
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δ(Psi): 0.02 ° ,δ(Delta): 0.04°
（透射模式测空气时）
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膜厚测量重复性（1）
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0.05nm (对于平面Si基底上100nm的SiO2膜层)
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折射率n测量重复性（1）
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0.001 (对于平面Si基底上100nm的SiO2膜层)
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单次测量时间
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典型0.6s / Wavelength / Point（取决于测量模式）
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光学结构
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PSCA（Δ在0°或180°附近时也具有高的准确度）
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可测量样品尺寸
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直径200 mm
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样品方位调整
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高度调节范围：10mm
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二维俯仰调节：±4°
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样品对准
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光学自准直显微和望远对准系统
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软件
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•多语言界面切换
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•预设项目供快捷操作使用
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•安全的权限管理模式（管理员、操作员）
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•方便的材料数据库以及多种色散模型库
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•丰富的模型数据库
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选配件
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自动扫描样品台
聚焦透镜
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注：(1)测量重复性：是指对标准样品上同一点、同一条件下连续测量30次所计算的标准差。
可选配件：
NFS-SiO2/Si二氧化硅纳米薄膜标片
NFS-Si3N4/Si氮化硅纳米薄膜标片
VP01真空吸附泵
VP02真空吸附泵
样品池
栏目页面:http://www.runlian365.com/product/4516.html
光谱椭偏仪
来源网址:http://www.runlian365.com/chanpin/xx-200100.html
ESS03 波长扫描式多入射角光谱椭偏仪
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EM12-PV 精致型多入射角激光椭偏仪（光伏专用） EX2自动椭圆偏振测厚仪 EM13 LD系列多入射角激光椭偏仪 VP02 真空吸附泵 ESS03 波长扫描式多入射角光谱椭偏仪 ESS01波长扫描式自动变角度光谱椭偏仪
联系方式::
本页产品地址：http://www.yi7.com/sell/show-7264578.html
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